國家知識產權局印發《專利和商標審查“十五五”規劃》
2026年11月03日20:46 | 來源:新華社
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新華社北京11月3日電(記者劉禎)記者11月3日獲悉,國家知識產權局日前印發《專利和商標審查“十五五”規劃》,明確了“十五五”時期開展專利和商標審查工作的主要目標、重點任務和專項工程。
規劃提出,到2030年,具有中國特色、世界水平的一流專利商標審查機構基本建成,審查制度日趨完善,審查質量顯著提升,支撐發展更加有力,國際合作持續深化,審查能力全球領先。
規劃部署了四方面重點任務。一是在專利審查方面,持續完善專利審查制度規則,健全專利審查管理體系,全面提升專利審查質量,服務經濟社會創新發展需求。二是在商標審查方面,持續完善商標審查制度規則,加強商標審查體系建設,提升商標審查質效,服務經濟社會高質量發展。三是在審查業務國際合作方面,深化專利和商標審查對外交流,深度參與全球治理,支持創新主體、經營主體提升海外專利和商標布局水平。四是在審查能力建設方面,加快推動人才隊伍和審查文化建設,系統提升審查保障支撐能力。
同時,規劃還設立了新興領域專利審查規則完善工程、商標審查質量提升工程、“人工智能+”審查工程等7個專項工程。
(責編:袁勃、趙欣悅)
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