人民網北京1月14日電 （記者孫博洋）記者從市場監管總局了解到，近日，市場監管總局批准新建二維線紋基准裝置，填補我國校准影像測量儀、光學顯微鏡等光學精密測量設備和高精度光刻機母版制造設備的二維線紋標准器的測量能力空白，核心技術實現完全自主可控。

據市場監管總局相關負責人介紹，二維線紋基准裝置測量范圍為320mm×320mm，最優測量不確定度僅28nm，相當於頭發絲直徑的2500分之一。該基准裝置主要特點是大范圍、微尺寸、多參量，可為二維尺寸、位置及形狀提供量值溯源，達到國際先進水平。該基准裝置有助於解決亞微米、納米級光刻機母版的二維線紋“測不准”的難題，為電子通信、軌道交通、航空航天、醫療設備等高端制造領域精密加工和測量設備提供技術支撐和保障。

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