【纳米压印新潮流】（上）增大面积扩展新用途

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“纳米压印”是把刻着精细图案的模具像图章一样按压到基板上，从而转印图案的技术。最近，该技术的实用化案例越来越多。其背景是，能以低成本制作大面积模具的技术开发取得了进步。纳米压印开始在多种新用途推进实用化，在半导体微细加工领域的应用也在考虑之中。

“纳米压印”*是通过像盖章一样把刻着精细图案的模具按压到基板等的上面，大量转印该图案的技术。2014年，该技术将在两方面取得较大进展。

*纳米压印：把刻着微细凹凸等图案的模具按压在薄薄地涂了树脂的基板上，将图案转印到树脂上的方法。包括“热纳米压印”和“光纳米压印”两种，前者是在转印时加热、使热可塑性树脂变形，后者是向紫外线（UV）硬化树脂照射UV、使之硬化。热纳米压印也被称作热压。美国普林斯顿大学教授Stephen Y. Chou于1995年证实，通过热纳米压印可获得10nm～50nm的高分辨率，从那时起，纳米压印作为划时代的微细加工技术开始受到关注。

第一，随着各种新用途的开拓以及大面积模具的开发，纳米压印的用途将快速扩大，量产规模也随之扩大。

图1：纳米压印的大面积用途快速扩大 本图为纳米压印的主要用途。该技术最初是作为半导体制造工艺之一开发的，最近，新的用途、尤其是以大面积为优势的用途快速增加，其中部分用途已开始实用化。

第二，有望作为最尖端的半导体制造技术开始投入实用。佳能2014年2月宣布收购美国的纳米压印设备厂商Molecular Imprints（MII）。纳米压印有望在2015年被用于NAND闪存的制造。

发展的关键在于面积大

有的厂商在开拓纳米压印技术的新用途、推进模具等的大面积化，有的厂商在面向纳米压印技术最初的用途——半导体制造推进开发，二者相比，前者的发展势头更加显著。

从事大面积模具制造的日本综研化学公司新规事业部NIP产品项目营业部主任吉原功介绍说：“用途从2012年下半年开始迅速扩大，量产项目也越来越多。估计2014年会进一步扩大。”同样面向新用途开发纳米压印设备的SCIVAX公司代表董事社长田中觉也说，“制造受托服务的订单从大约3年前开始增加，2013年的增幅尤其大，估计2014年会进一步加速”。

纳米压印的新用途包括形成液晶面板的防反射层、偏光膜、提高有机EL面板的光提取效率、车窗玻璃等的防水加工、从微细微透镜阵列到大型镜头的光学部件，等等。立体细胞培养等全新用途也很多。