2013年07月22日08:24
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有機EL顯示屏的大型化技術和柔性化技術在得到共同的“援軍”——InGaZnO TFT的支持后,均取得了明顯進步。在柔性化領域面臨的劣化問題方面,日本開發的技術有望成為突破口。
目前,大型有機EL顯示屏的制造技術處於前所未有的“群雄割據”狀態,標准制造工藝尚未確定,不同廠商、不同畫面尺寸的顯示屏所利用的制造技術各不相同(圖1)。
圖1:沒有在各個方面都達到最優的方案 本圖為目前有機EL顯示屏面臨的主要課題及解決方法。很多情況下,對於某個問題非常有用的對策對於其他問題可能會適得其反。 |
其原因在於,有機EL顯示屏的大型化及4K×2K等高精細化在最近一年才突然興起,局面稍顯混亂,而且制造難度高,不能用普通的方法生產。要解決的技術課題有很多,但即使在各項課題中選擇被認為最佳的技術,也很難穩定地生產,因此廠商必須要按照重視程度,為要解決的課題排好優先順序。實際上,不同廠商在有機EL顯示屏制造中採用的技術群組合也是不同的(表1)。
反復試驗
例如,在大型有機EL顯示屏的產品化方面領先的LG Display公司(LGD)重視的是易於制造、尤其是易於支持進一步的大型化和高精細化的技術群,TFT技術採用InGaZnO TFT,彩色顯示方式採用白色發光元件+彩色濾光片(WRGB),有機EL發光元件為易於制造的底部發光型。
不過,該公司在SID 2013上表示,做出這樣的選擇是經過了多次試驗決定的。比如,2010年以前是利用基於FMM*的RGB分涂技術開發有機EL顯示屏﹔TFT技術在2010年之前一直採用低溫多晶硅(LTPS)TFT,在嘗試過幾種不同的制造方法后,換成了該公司的研究所從2007年開始研發的InGaZnO TFT。
*FMM(Fine Metal Mask,精細金屬掩模):用於RGB圖案、有很多微孔的金屬板。
彩色顯示方式也是如此,最初RGB分涂方式要比WRGB發光效率高,但從2010年前后開始,WRGB的發光效率反超了RGB分涂方式,原因是採用了發光單元為兩層的“串聯構造”。
玻璃基板的尺寸在2010年年底由第二代(G2)過渡到了第八代(G8),同時,由鋁(Al)布線變成了銅(Cu)布線。但進行PBTS試驗*后發現,以前隻有0.7V左右的閾值電壓變化量猛增到了1.72V左右。不過,“在2012年底之前又降到了0.49V左右”(LGD)。
*PBTS(Positive Bias Temperature Stress)試驗:為TFT等加熱,然后在加載正電壓的條件下,測評閾值電壓變化量的試驗。
LGD最近又做了幾項改進(圖2)。例如,將用於TFT間布線的ITO換成了電阻值低的銅布線,估計這是為了降低2012年底時高達520W的55英寸有機EL電視的耗電量。另外,為了提高生產合格率,在InGaZnO TFT層的制造中使用的是G8玻璃基板,一次切出6塊背板,而在有機EL層的制造中使用尺寸為G8一半的玻璃基板,一次切出3塊。該公司表示,“近期打算把有機EL層也恢復為一次將G8玻璃基板切為6塊的制造方法。另外,還計劃用G8以上的玻璃基板制造55英寸以上的面板和4K×2K面板”。
圖2:為降低耗電量和提高合格率煞費苦心 本圖為LGD發布的為降低55英寸有機EL顯示屏的耗電量(a)和提高合格率(b)所採取的措施。 |